Desk Carbon Coater - DCR
Revestidor de carbono compacto de bancada para preparação de amostras em SEM, TEM e análise EDX.
Desk Sputter Coater- DSR1
Revestidor por sputtering compacto para deposição de metais nobres (Au, Pd, Pt, Au/Pd) em amostras não condutoras para análise em SEM.
High Vacuum, Single Magnetron Target Desk Sputter Coater DST1-170
Revestidor de bancada de alto vácuo com alvo magnetron único de 2 polegadas, ideal para FE-SEM, EDS/WDS, TEM e EBSD.
High Vacuum, Single Magnetron Target Desk Sputter Coater DST1-300
Revestidor por sputtering de alto vácuo com câmara maior, capaz de revestir semicondutores, dielétricos e metais oxidantes e não oxidantes.
Turbo Pumped Desk Carbon Coater- DCT
Revestidor de carbono turbo-bombeado de alto vácuo para aplicações em FE-SEM, EDS/WDS, TEM e EBSD com filmes de carbono de grão fino.
Desk Sputter & Carbon Coater - DSCR
Revestidor combinado de sputtering e carbono compacto para amostras não condutoras, incluindo metais nobres e filmes de carbono.
Desk Sputter & Carbon Coater – DSCR-300
Revestidor de câmara grande com cátodos magnetron de 3 ou 4 polegadas resfriados a água, ideal para amostras de até 15 cm de diâmetro.
High Vacuum Desk Sputter & Carbon Coater - DSCT
Instrumento de alto vácuo com cabeças intercambiáveis para sputtering e revestimento de fibra de carbono em preparação de amostras para SEM.
High Vacuum Sputter Coater and Carbon/Thermal Evaporator – DSCT-T
Sistema versátil com três cabeças intercambiáveis: revestidor por sputtering, revestidor de carbono e evaporador térmico em uma única unidade.
High Vacuum Thermal Evaporator- DTE
Evaporador térmico de bancada compacto para deposição de metais nobres e metais oxidantes sob alto vácuo para fins de pesquisa.
Desk Thermal Evaporator-DTT
Evaporador térmico de bancada com evaporação tripla-fonte para deposição de filmes multicamadas e ligas.
High Vacuum, Triple Magnetron Target Desk Sputter Coater-DST3-A/S
Revestidor com três alvos magnetron de 2 polegadas resfriados a água e fontes de alimentação RF e DC, para deposição de semicondutores e metais diversos.
High Vacuum, Triple Magnetron Target Desk Sputter Coater with Thermal Evaporator-DST3-TA/S
Sistema multi-vácuo que combina sputtering e evaporação térmica em unidade de bancada compacta com três alvos magnetron.
High-Vacuum, Double-Magnetron Target Sputter Coater/ThermalEvaporator-DST2-TG
Sistema de duplo alvo magnetron com evaporação térmica, controle remoto via Wi-Fi e interface touchscreen.
PLD Pulsed Laser Deposition System
Sistema avançado de deposição por laser pulsado e evaporação térmica para deposição de nitretos, óxidos, superlattices e polímeros.
Turbo Pumped Carbon Coater and Thermal Evaporator – DCT-T-300
Revestidor de carbono turbo-bombeado com câmara de 300 mm de diâmetro para amostras de até 15 cm, com processo totalmente automático.
Large Desk Turbo-Pumped Carbon Coater – DCT-300
Revestidor de carbono de bancada de grande câmara (300 mm) com processo de revestimento automático e programável por flash, pulsado ou rampa.
Magnetron Sputtering System ToronSP-400
Sistema PVD box-type com 1 a 4 fontes de sputtering DC/RF para deposição de filmes nanométricos metálicos, óxidos, carbetos ou nitretos.
Load-Lock Equipped Coating System ToronTS-450
Sistema de revestimento com câmara load-lock para processamento mais rápido em ambiente de alto vácuo (10⁻⁷ Torr), com carga de novo wafer a cada 15 minutos.
Spin Coaters (ToronSC Series)
Spin coaters para deposição precisa de filmes finos uniformes, amplamente utilizados em ciência de materiais, pesquisa de semicondutores e P&D industrial.
